Characteristics of ALD‐ZnO Thin Film Transistor Using H <sub>2</sub> O and H <sub>2</sub> O <sub>2</sub> as Oxygen Sources

نویسندگان

چکیده

ZnO thin films are deposited by atomic layer deposition (ALD) using diethylzinc as the Zn source and H2O H2O2 oxygen sources. The oxidant- temperature-dependent electrical properties growth characteristics systematically investigated. Materials analysis results suggest that provides an oxygen-rich environment so vacancies (VO) is suppressed, implying a lower carrier concentration higher resistivity. rate makes it possible for to grow along surface energy direction of <002>, leading Hall mobility. Furthermore, semiconductor integrated into film transistor (TFT) devices analyzed. TFT with H2O2-ZnO grown at 150 °C shows good properties, such high field-effect mobility 10.7 cm2 V–1 s–1, ratio Ion/Ioff 2 × 107, sharp subthreshold swing 0.25 V dec–1, low trapping state (Ntrap) 2.77 1012 eV–1 cm–2, which new pathway optimize performance metal-oxide electronics.

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

بررسی عدم استقرار الکترون در پیوندهای هیدروژنی درون مولکولی از نوع o-h…o , n-h…n , s-h…s

چکیده در مطالعه کنونی، عدم استقرار الکترون در پیوندهای هیدروژنی کمک شده رزونانسی درون مولکولی از نوع o-h…o ، n-h…n، s-h…s در سطوح تئوری mp2 و b3lyp با استفاده از سری پایه استاندارد 6-311++g** و تئوری کوانتومی "اتمها در مولکولها" (qtaim) مورد بررسی قرار گرفته است. انرژی پیوندهای هیدروژنی درون مولکولی برای این سیستم ها از روش اسپینوزا که مبتنی بر پارامترهای توپولوژیکال مشتق شده از تئوری aim می ب...

15 صفحه اول

O  M S-o T H

We compare classes of finite relational structures via monadic second-order transductions. More precisely, we study the preorder C ⊑ K : iff C ⊆ τ(K) for some transduction τ. If we only consider classes of incidence structures we can completely describe the resulting hierarchy. It is linear of order type ω + . Each level can be characterised in terms of a suitable variant of tree-width. Canoni...

متن کامل

Transistor Characteristics with Ta O Gate Dielectric

As the gate oxide thickness decreases below 2 nm, the gate leakage current increases dramatically due to direct tunneling current. This large gate leakage current will be an obstacle to reducing gate oxide thickness for the high speed operation of future devices. A MOS transistor with Ta2O5 gate dielectric is fabricated and characterized as a possible replacement for MOS transistors with ultra-...

متن کامل

Effect of Surface Energy on Pentacene Thin-Film Growth and Organic Thin Film Transistor Characteristics

In this study, we discuss pentacene-based organic thin films grown on a self-assembled monolayer (SAM)-treated dielectric with various functional groups and molecular lengths. The functional groups and molecular lengths on the dielectric surface were modified using a SAM treatment followed by ultra violet (UV) light exposure. Surface energy was used to observe the surface polarity variation dur...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Advanced Materials Interfaces

سال: 2022

ISSN: ['2196-7350']

DOI: https://doi.org/10.1002/admi.202101953